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          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺

          更新時間:2024-10-16

          簡要描述:

          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺性能上是工業(yè)中的。它具有TMC*的CleanTop設(shè)計:小的核心尺寸,高的核心密度設(shè)計,全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴(yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù),和超快激光技術(shù),以及嚴(yán)重的地板振動環(huán)境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動消除系統(tǒng)和此平臺結(jié)合使用,可以形成好的整體振動控制。

          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺

          研究等級的 CleanTop 在光學(xué)平臺性能上是工業(yè)中的。它具有TMC*的CleanTop設(shè)計:小的核心尺寸,高的核心密度設(shè)計,全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴(yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù),和超快激光技術(shù),以及嚴(yán)重的地板振動環(huán)境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動消除系統(tǒng)和此平臺結(jié)合使用,可以形成好的整體振動控制。

          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺

          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺特點:

            1、結(jié)構(gòu)阻尼---研究等級

            2、CleanTop獨立尼龍杯,每一個螺紋孔下面都是密封的(25mm

          一般技術(shù)要求:

            核心:鋼制蜂窩封閉孔,0.010英寸厚的鋁箔
            核心剪切模量:275000 psi
           
          核心單元尺寸:< 0.5 in.2
           
          核心密度:13.3/發(fā)生(230公斤/立方米)
           
          平面度:0.005英寸。(0.13毫米)
           
          桌面表層:430系列鐵磁不銹鋼,3/16英寸厚(5毫米)
           
          側(cè)壁:阻尼成型槽鋼,乙烯基覆蓋

          螺紋孔:25毫米長CleanTop尼龍杯


          角順應(yīng)性數(shù)據(jù)測量了平臺在響應(yīng)校準(zhǔn)錘的沖擊時所產(chǎn)生的位移。順應(yīng)性是在48in x 96in x 12in的平臺上測量的。

          TMC784系列研究等級光學(xué)平臺

          研究級:角落順應(yīng)性數(shù)據(jù)可測量工作臺響應(yīng)校準(zhǔn)錘沖擊的位移。300 Hz以下的無響應(yīng)表明具有ji高的阻尼和出色的整體結(jié)構(gòu)性能。順應(yīng)性在一個48 x 96 x 12英寸的工作臺上進(jìn)行測量。


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